半导体湿法工艺设备对材料纯度和耐化学性要求极高，PFA是首选材料。 半导体湿法工艺对材料的要求 超高纯度：金属离子含量ppb级 耐化学性：耐HF、HCl、H2SO4、HNO3等蚀刻液 低萃取物：在超纯水中萃取物极低 耐高温：部分工艺温度超过200°C PFA在半导体中的应用 湿法槽体：PFA模压粒制造的工艺槽体 管道系统：PFA挤出粒制造的高纯管道 阀门管件：PFA注塑粒制造的阀门和管件 花篮载具：PFA注塑粒制造的晶圆载具 推荐产品：PFA注塑粒、PFA挤出粒、PFA模压粒、FFKM 标签#行业方案返回技术资讯
